第九九八章 重回世界之巅

按照双方签订的专利技术转让协定,gca只有适合8英寸和500nm制程工艺、8英寸和350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统专利技术使用权,没有专利技术转让权。

在arfi准分子激光器研发成功之前,bsec光刻机工作台研究所继续研发适合8英寸和500nm制程工艺、8英寸和350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统,与gca研发成功的双工作台系统进行对比,取长补短,为研发适应浸没式光刻系统的磁悬浮式双工作台系统储备技术。

根据九二年修订的专利法,国内的发明专利保护期限变成了20年,实用新型专利权和外观设计专利权的期限为10年,均自申请之日起计算。

只要重新申请的新发明专利比前一个发明专利更先进,发明专利的保护期限可以一直延长下去,形成事实上的技术垄断,就像windos系统!

“艾德里安总经理,申请明天的股票停牌,邀请sematech专家组对gca3500b进行技术认证,拿到认证鉴定后,申请公司发明专利,邀请ii、amd、hp、三星和台积电等半导体制造企业参观gca3500b光刻机样机。”

从余建国的口里知道,gca今天上午的股票小幅下跌,特大利好消息没有泄密!

“好的,董事长!”

“艾德里安总经理,我们新研制gca3500b光刻机的生产成本是多少万美元?出厂价打算定多少?”

一台nikon3500b光刻机,市场售价如今是3700万美元。

“孙总,据初步核算,成本要1800万美元,市场售价定在4000万美元。”

“艾德里安总经理,一旦消息传出去,我预测nikon3500b光刻机肯定会大幅降价,我们的市场售价就卖3500万美元,薄利多销,让利于客户。”

如今,nikon光刻机设备公司正在研制8英寸晶圆和250nm制程工艺的光刻机,一旦研制成功就会挤压gca3500b的市场份额。

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“好的,孙董事长!”